磁控濺射技術(shù)是目前最重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)之一，與其他的濺射鍍膜相比，磁控濺射技術(shù)具有高速、低溫、低損傷的優(yōu)點(diǎn)。一般這種濺射方法被稱為低溫高速濺射法，但是磁控濺射法也有很多缺點(diǎn)，例如濺射中不均勻沖蝕造成的濺射靶材利用率低的問(wèn)題，所以如何優(yōu)化濺射技術(shù)提高靶材利用率就成為了大家關(guān)注的問(wèn)題。對(duì)于提升鉻靶、鋯靶等磁控濺射靶材利用率的工藝技術(shù)，凱澤金屬分享如下：

1、優(yōu)化磁控陰極結(jié)構(gòu)

優(yōu)化磁控陰極結(jié)構(gòu)，就是通過(guò)對(duì)磁鋼進(jìn)行恰當(dāng)切削 ，其將中間磁鋼形狀進(jìn)行改變 ，讓磁鋼變?yōu)槎祟^向中間收窄，而兩側(cè)磁鋼進(jìn)行單邊切削，擴(kuò)大磁場(chǎng)的范圍進(jìn)而提高了靶的利用率。這種方式可以使得靶材利用率達(dá)到40%-50%。

2、分流設(shè)計(jì)法

分流設(shè)計(jì)法就是在靶材跟磁極之間放置一定形狀的鐵磁體墊片，這就會(huì)使得靶面附近的磁場(chǎng)分布更均勻，這樣不僅可以使得整個(gè)噴濺過(guò)程更均勻，而且還可以使得靶材的利用率提高到86%，也會(huì)在一定程度上延長(zhǎng)靶材的壽命。

動(dòng)態(tài)的方法就是動(dòng)態(tài)的變換靶面閉合磁場(chǎng)的分布，從而改變靶面的等離子刻蝕區(qū)，以提高靶材的利用率與薄膜的穩(wěn)定性。一般采用的方法就是在磁體結(jié)構(gòu)下加一個(gè)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，電機(jī)帶著磁體做往復(fù)運(yùn)動(dòng)，增大刻蝕面積，并且可以使不同靶材在鍍膜時(shí)都得到最佳的性能。

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